• 220 VAC，50 / 60Hz，單相
• 800 W（包括泵）
• 如果電壓為  110 VAC，則需要1000 W的變壓器，請單擊左圖訂購

• 一個13.5兆赫，300瓦的RF  發生器，提供自動匹配功能內置于機殼和連接到2"濺射頭 （點擊圖片向左看詳細規格）
• 可選：直流濺射電源可用于涂覆金屬材料 
•  射頻電源                直流電源可選

磁控濺射頭

• 一個2"  與水冷卻夾套磁控濺射頭被包括并且經由快速夾具插入到石英腔（點擊產品圖。 左1看詳細規格）
• 法蘭上裝有一個百葉窗（手動操作）
• 需要一臺16升/分鐘的數控循環水冷卻器來冷卻磁控濺射頭（如果沒有，請單擊右圖3進行  訂購）
• 1英寸濺射頭是可更換的，并且可選，但要額外付費（請單擊右圖2進行訂購）
• 可以替換148厘米的射頻電纜，但需要支付額外費用（點擊右圖1進行訂購）

               

   

  

濺射靶

• 目標尺寸要求：2英寸直徑x 1/4英寸*大厚度
• 演示測試包括一個銅靶（直徑2英寸x 3毫米t）。
• Al2O3陶瓷靶材   推薦涂覆方法
• 可根據要求提供可選的2英寸濺射靶（帶背板），但需額外付費。

真空室

• 真空室：外徑160毫米x內徑150毫米x高度250毫米。由高純度石英制成
• 密封法蘭：直徑165 mm。鋁制成，帶有高溫硅膠O形圈
• 隨附的不銹鋼網罩可100％屏蔽來自腔室的RF輻射
• 真空度：帶有雙級機械泵的1.0E-2 Torr和帶有可選渦輪泵的1.0E-5 Torr

樣品架

• 樣品架可旋轉且可加熱，由帶不銹鋼蓋的陶瓷加熱器制成
• 樣品架尺寸：直徑50 mm。*多2“晶圓
• 旋轉速度可調：1-10 rpm，以獲得均勻的涂層
• 支架溫度可通過數字溫度控制器在RT至*大500°C范圍內調節，精度為+/- 1.0  ° C。
• 根據要求可提供800-1000oC加熱樣品架。
• 可選的振動樣品架可用于動力PVD涂層。（下面的圖片3）
•   射頻粉末涂料

• KF25真空端口是內置的，用于連接真空泵。
• 需要帶有KF25適配器的真空泵，但不包括在內。.  請單擊圖片單獨訂購。
• 真空度：雙級機械泵為   1.0E-2托，渦輪泵為1.0E-5托

               

• 精密石英厚度傳感器是可選的（請單擊下面的Pic1進行訂購），可以將其安裝在腔室內，以0.10?的精度監控涂層厚度。需要筆記本電腦才能顯示厚度
•              

外形尺寸

凈重

• 70公斤

保修與合規

• 一年有限保修，提供終身支持
• CE認證
• NRTL認證暫時不可用。

操作指令

應用須知

• 這種緊湊的2英寸RF磁控濺射鍍膜機設計用于在通常不需要高真空設置的氧化物單晶襯底上涂覆氧化物薄膜
• 請使用> 5N純度的Ar氣體進行等離子濺射
• 為了獲得*佳的薄膜與基材的粘合強度，  請  在涂覆前清潔基材表面  ：
• 用以下連續浴進行超聲波清洗（單擊Pic＃1進行訂購）-（1）丙酮，（2）異丙醇-除去油和油脂。用氮氣吹干基材，然后在真空中熱烘烤以除去吸收的水分
• 表面粗糙化，表面化學鍵活化或其他污染物去除可能需要等離子清潔（單擊Pic＃2進行訂購）
• 可以使用諸如Cr，Ti，Mo，Ta之類的薄緩沖層（?5 nm）來提高金屬和合金的附著力
• 為了獲得*佳性能，非導電靶必須安裝有銅襯板。請參閱以下說明視頻（＃3）了解目標綁定
• MTI使用鍍膜機成功地在500°C的 Al ₂ O ₃ 基體上涂覆了ZnO （圖5中的XRD曲線）
• 請勿在冷水機中使用自來水。使用去離子水，蒸餾水或抗腐蝕添加劑作為色漿。

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