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VTC-600-2HD-LD是一種緊湊的磁控濺射系統,具有兩個2“目標源,例如,一個DC源用于涂覆金屬膜,另一個RF源用于涂覆非金屬材料。該涂覆系統設計用于同時涂覆兩種適用于多種材料的單層或多層膜,例如合金,鐵電材料,半導體,陶瓷,電介質,光學材料,PTFE等。
產品描述
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VTC-600-2HD-LD是一種緊湊的磁控濺射系統,具有兩個2“目標源,例如,一個DC源用于涂覆金屬膜,另一個RF源用于涂覆非金屬材料。該涂覆系統設計用于同時涂覆兩種適用于多種材料的單層或多層膜,例如合金,鐵電材料,半導體,陶瓷,電介質,光學材料,PTFE等。 (自2015年9月25日起修訂。不包括薄膜厚度監視器。) 規格書
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