• 5個磁控濺射槍，可用于5種不同的靶材
• 根據所使用的電源（RF或DC），可以沉積金屬和非金屬材料。 
• 能夠濺射5種靶材以通過不同的濺射時間/速率產生各種成分
• 使用可選的5個電源，  可以同時濺射5種靶材，以進行組合濺射
• 可以使用掩模和旋轉樣品架分批沉積16個樣品

• 單相220 VAC，50/60 Hz
• 1000 W（包括真空泵和冷水機）

• 隨附一臺13.5 MHz，300 W自動匹配RF發生器并將其連接到濺射頭
• 可旋轉開關可以一次激活一個濺射頭。可以在多層工藝中在不破壞真空的情況下“在等離子體中”切換濺射頭。
• 多個RF電源是可選的，允許用戶同時濺射多靶材以進行組合濺射
• 帶有控制軟件的筆記本電腦需要額外付費才能控制每個RF噴槍的濺射時間和功率

• 您可以選擇用于金屬靶濺射的直流電源
• 使用五個DC或RF電源，可以同時濺射5種靶材以進行組合濺射

磁控濺射頭

• 包括五個帶水冷套的1“磁控濺射頭（單擊Pic＃1了解詳細信息），并通過快速夾具插入石英室
• 可以在MTI購買更換射頻電纜（有關詳細信息，請單擊圖片＃2 ）
• 法蘭上裝有一個手動操作的百葉窗（請參閱圖3）    
• 包括一個10 L / min的數控循環水冷卻器，用于冷卻濺射頭（單擊Pic＃4  了解詳細信息）

  （1）

  （2）

  （3）

  （4）

濺射靶

• 目標尺寸要求：1英寸直徑x 1/8英寸*大厚度
• 濺射距離范圍：50 – 80 mm可調
• 濺射角度范圍：0 – 25°可調 
• 包括1“直徑的銅靶和Al ₂ O ₃  靶，用于演示測試
• 可應要求提供各種氧化物的1“濺射靶材，但需額外付費
• 對于目標鍵合，包括1毫米和2毫米的銅墊板。可以在MTI訂購環氧銀（Pic＃1）和額外的銅墊板（Pic＃2）

• 真空室由帶加強筋的304不銹鋼制成 
• 內部真空室尺寸：  470毫米長×445毫米深×522毫米高   （?105升，18.5“ x17.5” x 20.5“）
• 圓形380毫米直徑 帶150毫米直徑玻璃窗的鉸鏈式門
• 溫度范圍：-15至150°C
• 真空度：  渦輪泵為4.0E-5 torr

樣品架

• 直徑150毫米的可旋轉樣品架，可一次涂覆16種樣品，組成不同
• 樣品架和面罩的旋轉可以通過按鈕手動控制，也可以通過控制軟件自動控制（可選）
• 樣品架溫度可在RT至*大600°C范圍內調節 

• 內置KF40真空端口，用于連接真空泵。
• 隨附緊湊型渦輪泵（單擊左側圖片查看規格）
• 帶可選渦輪泵的4.0E-5 Torr   （單擊下面的圖片）   

• 精密石英厚度傳感器是可選的（有關詳細信息，請單擊Pic＃1）。它可以內置在腔室中，以0.1?的精度監控涂層厚度（需要水冷） 
• 易于通過USB連接到PC進行遠程厚度和涂層速度監控
• 包括5個石英傳感器（消耗性） 
• 

凈重

• 60公斤

合規

• CE認證
• 可應要求提供MET認證（UL 1450），但需要額外收費，請聯系我們的銷售代表以獲取報價。 

保證 

• 一年有限保修，提供終身支持 

應用須知
  

• 這款緊湊的1英寸RF磁控管濺射鍍膜機設計用于在通常不需要高真空設置的氧化物單晶襯底上涂覆氧化物薄膜
• 為了**使用，應在氣瓶上安裝兩級壓力調節器（不包括），以將氣體的輸出壓力限制在0.02 MPa以下。請使用> 5N純度的Ar氣體進行等離子濺射
• 為了獲得*佳的薄膜與基材的粘合強度，  請  在涂覆前清潔基材表面  ：
• 用以下連續浴進行超聲波清洗（單擊Pic＃1進行訂購）-（1）丙酮，（2）異丙醇-除去油和油脂。用氮氣吹干基材，然后在真空中熱烘烤以除去吸收的水分
• 表面粗糙化，表面化學鍵活化或其他污染物去除可能需要等離子清潔（單擊Pic＃2進行訂購）
• 可以使用諸如Cr，Ti，Mo，Ta之類的薄緩沖層（?5 nm）來提高金屬和合金的附著力

• 為了獲得*佳性能，非導電靶必須安裝有銅墊板。請參考下面的指導視頻（＃3）進行目標鍵合
• MTI提供從A到Z的單晶襯底（單擊Pic＃4進行訂購） 
• MTI RF等離子濺射鍍膜機已成功在500°C的Al ₂ O ₃襯底上涂覆ZnO （圖5中的XRD曲線）
• 用EQ-MBT-12-LD心軸彎曲測試儀測試薄膜/涂層電*的柔韌性  。（有關詳細信息，請單擊Pic.6。）
• 高壓！濺射頭連接到高電壓。為了**起見，操作人員必須在樣品加載和目標改變操作之前關閉RF發生器。
• 請勿在冷水機中使用自來水。與水一起使用冷卻液，去離子水，蒸餾水或抗腐蝕添加劑

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