簡單介紹
Holmarc設計了具有高精度組件的多功能4“基板UV激光寫入器,專門設計用于為用戶提供*大的自由度,使其可以在光敏層中創建微結構。 系統支持高達4096級的灰度等級,支持3D光學結構,表面結構以及蒙版項目,使該系統成為用于研發的理想Litho工具。
產品描述
Holmarc設計了具有高精度組件的多功能4“基板UV激光寫入器,專門設計用于為用戶提供*大的自由度,使其可以在光敏層中創建微結構。
系統支持高達4096級的灰度等級,支持3D光學結構,表面結構以及蒙版項目,使該系統成為用于研發的理想Litho工具。
| 激光 | : | GaN激光二*管 |
| 波長 | : | 405納米 |
| 空間過濾單元 | : | 基于物鏡 |
| 光斑尺寸 | : | 1微米(取決于物鏡) |
| 強度 | : | 現場軟件控制的*大3 mW |
| 光功率反饋單元 | : | 是 |
| 焦點控制 | : | 軟件可控 |
| 燈光控制 | : | 4096級 |
| XY掃描臺行程 | : | 100毫米 |
| 解析度 | : | 1微米 |
| Z軸行程 | : | 20毫米 |
| 解析度 | : | 1微米 |
產品留言